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为达到良好的抗力形,下列哪项是错的

来源: 自学库    发布:2023-08-02     [手机版]    
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导读

正确答案:D。A.洞底要平,洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐 B.洞形要有一定的深度 C.邻洞应制成阶梯 D.邻洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面 E.去除薄壁弱尖 更多口腔医学副高级职称考试的考试资料及答案解析请访问志学网卫生职称考试栏目。

1. [单选题]为达到良好的抗力形(resistance form),下列哪项是错的

A. 洞底要平,洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐
B. 洞形要有一定的深度
C. 邻洞应制成阶梯
D. 邻洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面
E. 去除薄壁弱尖


2. [多选题]属于酰胺类局麻药的有

A. 普鲁卡因
B. 布比卡因
C. 利多卡因
D. 丁卡因
E. 氯乙烷


3. [单选题]与口腔黏膜病有关的最主要的真菌是

A. 酵母菌
B. 白色念珠菌
C. 热带念珠菌
D. 假热带念珠菌
E. 星形念珠菌


4. [单选题]与动脉粥样硬化发生最密切的是

A. 高密度脂蛋白升高
B. 血清铜升高
C. 三酰甘油升高
D. α-脂蛋白升高
E. 胆固醇升高


5. [单选题]关于牙髓腔的解剖,下面说法正确的是

A. 下颌第一磨牙近颊髓角最高
B. 下颌第一磨牙远颊髓角最高
C. 上颌第一磨牙近颊髓角最高
D. 上颌第一磨牙远颊髓角最高
E. 上颌第一磨牙近中髓角最高


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